Сравнительная оценка требований, предъявляемых к помещениям размещения высокоточных производств

Рассмотрены основополагающие принципы проектирования и критерии размещения высокоточного оборудования, предназначенного для выпуска микроэлектронных компонентов и исследования структур микронного и субмикронного уровней. Основной аспект статьи сделан на защите от вибрации естественного и техногенного происхождения, присутствующей практически в любом месте строительства. Основная цель минимизации вибраций заключается в том, чтобы не допускать возникновения колебаний, способных искажать измерительные данные и нарушать работу высокоточного оборудования, такого как электронные микроскопы, литографические установки и системы нанометрового контроля. Современным требованием по вибрации является предельно допустимый уровень виброскорости от 3 до 0,5 мкм/с или меньше в зависимости от оборудования и целей исследований. Проанализированы требования отечественных и зарубежных нормативных и рекомендательных документов к уровням вибрации основания в местах установки высокоточного оборудования. Приведены результаты измерений и оценки уровней вибрации на типовом объекте согласно указанным требованиям.